就在張汝金開始介紹起國內(nèi)光刻機現(xiàn)狀時，蘇遠(yuǎn)山笑著打斷了他的話。
　　
　　“張叔，好歹給咱們留點念想……”
　　
　　張汝金一怔，當(dāng)見到蘇遠(yuǎn)山嘴角掛起的苦笑時，他也滿嘴苦澀，繼而笑著搖了搖頭。
　　
　　是的，這玩意，真不能深究。一旦深究下去，就必定落到國內(nèi)的整體工業(yè)狀況上去，而這個問題……太具體，也太沉重了，遠(yuǎn)不是遠(yuǎn)芯能夠承擔(dān)和討論得起的。
　　
　　現(xiàn)在遠(yuǎn)芯看似站在了和國外同行的同一個高度，甚至某些領(lǐng)域還有些許的領(lǐng)先。但國外的科技企業(yè)之下，是整整一座從基礎(chǔ)到中端再到高端的金字塔。而遠(yuǎn)芯，則只是一棟在低矮平房中拔地而起的大廈——更要命的是，承載這座大廈的，還有許多是來自國外的技術(shù)和設(shè)備。
　　
　　一座摩天大廈，就算修建得再高，再富麗堂皇。就穩(wěn)固性而言，永遠(yuǎn)也不可能和金字塔相提并論。
　　
　　這便是，為什么剝離代工廠會對遠(yuǎn)芯造成那么大的影響，蘇遠(yuǎn)山也要堅持優(yōu)先代工廠的發(fā)展的原因。
　　
　　“光刻機那邊，鄭工簡單地給我通了個氣，表示目前暫時還沒有受到影響。但他也未雨綢繆，加大了采購力度?！碧K遠(yuǎn)山搖了搖頭，眉頭輕輕地皺起。
　　
　　國內(nèi)光刻機的發(fā)展已經(jīng)偏離了原本的軌跡，從原本的杳無聲息到如今能夠提供滿足國內(nèi)0.8微米需求的436nm-g-line機型，其實這算一個好消息。
　　
　　但這也意味著，它將極有可能提前遭到技術(shù)封鎖。
　　
　　需要說明一點的是，按照波長和線寬，理論上，g線光源也是可以達(dá)到0.25um節(jié)點的極限，但由于波長緣故，越是要達(dá)到極限，工藝也就越是復(fù)雜——如今宏芯的光刻機已經(jīng)進(jìn)廠半年多，華晶那邊依舊在磨合著依舊很成熟的0.8微米工藝。再加上g線光刻膠目前最高也僅支持到0.5微米，是以……它未來不可期。
　　
　　并且就連遠(yuǎn)芯，制程推進(jìn)也是在尼康i線365nm光刻機的基礎(chǔ)上進(jìn)行，雖然理論最小工藝節(jié)點依舊是0.25微米。但波長和線寬的優(yōu)勢，使得其更容易達(dá)到節(jié)點。
　　
　　此外，早在去年，intel就推出了基于0.35微米制程工藝的pentiummmx，輕而易舉地就回到了性能王座的同時，也彰顯了其晶圓廠強大的制程工藝實力。
　　
　　根據(jù)小道消息，intel的0.25微米工藝也在突破當(dāng)中。
　　
　　相比之下，德遠(yuǎn)這邊，還在為0.35微米工藝打著攻堅戰(zhàn)。
　　
　　與此同時，尼康那邊已經(jīng)采用248nm的krf準(zhǔn)分子激光作為下一代光刻機的光源，緊接著便是193nm的arf——也就是大名鼎鼎的duv。屆時，憑借多重曝光技術(shù)，duv將會把制程節(jié)點提高到65納米的干式光刻極限。
　　
　　再往后……便是浸沒式技術(shù)的天下了。
　　
　　如果說，還有什么能夠讓蘇遠(yuǎn)山有信心和勇氣去直面光刻機的未來，恐怕就是“多災(zāi)多難的”雙工件臺以及目前八字都沒一撇的浸沒式光刻技術(shù)了。
　　
　　沉默幾秒后蘇遠(yuǎn)山沉聲道：“對于國家來說，光刻機就是好不容易養(yǎng)出來的金寶貝，不可能就此不管的，我們只需要做好我們應(yīng)該做的即可。”
　　
　　說著他用力揮了一下手，仿佛想要揮去陰霾和迷霧。
　　
　　陳靜見狀毫不掩飾自己的心疼，輕聲道：“要不自由討論一下？”
　　
　　“沒事，下一條?！碧K遠(yuǎn)山抿了抿嘴，緊接著望向田耀明，末了又看了一眼末尾的李逸男一眼。